分压在真空热处理中的应用

在真空条件下进行的热处理称为真空热处理。 真空热处理是一种理想的无氧化、无脱碳的光亮热处理技术。但是,在真空热处理过程中金属元素的蒸发、零件表层合金元素的贫化、抗腐蚀性能的下降以及提高零件的表面光亮度等难题是不可避免要出现的。

1.真空热处理下金属元素的蒸发纯金属及合金中的金属元素在一定的温度及真空度下会产生蒸发。 它对零件的真空热处理质量、对真空加热室的污染均有着不可忽视的有害影响。 根据相平衡理论, 在不同温度下,金属蒸发作用于金属表面上的平衡压力 (蒸 气压)是不同的。随着温度的升高,蒸气压也升高。当外界压力小于该温度下金属元素的蒸气压时,金属元素就会产生蒸发(升华) 。外界压力越小,即真空度 越高,金属元素就越容易蒸发。在相同的条件下蒸气压高的元素比蒸气压低的元 素更容易蒸发。合金中(包括零件材料、真空加热室的结构材料及工夹具材料)或者绑扎零 件用的铁丝的表面, 如果含有蒸气压高的金属元素 (如 Ag 、 Al 、 Mn 、 Cr 、 Si 、 Pb 、 Zn 、 Mg 、 Cu 等) ,在真空中加热时,当真空度高于金属元素的蒸气压,则金属元 素将产生蒸发,蒸发出来的金属元素,呈气体形态围绕在固体金属的周围,粘附 并污染金属表面, 冷却时造成零件之间或零件与料筐之间的相互粘接, 严重时会 造成加热元件与炉体间的短路。 蒸发严重时,引起零件表层合金元素贫化而影响性能,并且造成表面粗糙, 影响零件的表面光亮度。 因此,在真空中加热,真空度的选择是一个相当重要的问题,必须给予足够 的重视。

2.低压气体保护可减少金属元素蒸发 为减少或避免合金元素的蒸发, 可以采取向真空加热室内回充高纯中性或惰 性气体(如氮气、氩气、氦气等)的方法来提高压强。将真空室内的压强调节在 0.1 ~ 650Pa 的范围内。这种真空保护气氛热处理方法 ( 又称为低压气体保护法 ) , 既可防止合金元素的蒸发,又可获得光亮的表面。 这种方法的另一个好处是增加 了对流传热作用,更有利于零件的均匀加热。 真空保护气氛热处理法所使用的气体纯度一般应大于 99.99% 。 若回充的中性 或惰性气体的纯度不够,不仅不会降低合金元素的蒸发速度,反而会使之增加, 造成零件表层合金元素贫化,抗腐蚀能力下降。不锈钢含有大量的 Cr 、 Ni 、 AL 、 Mn 、 Ti 等合金元素,其蒸气压都比较高。 真空固溶处理要求在较高的真空度( 1.33 × 10 -2 ~ 1.33 × 10 -3 Pa )下进行;为防止 合金元素的蒸发,应采用真空分压处理,即先将加热室的真空抽至 1.33 × 10 -2 ~ 1.33 × 10 -3 Pa ,然后回充高纯中性或惰性气体,使充气压强保持在 133 ~ 13.3Pa 或者更高。 高纯中性或惰性气体要始终保持向加热室内回充,一是使气体充分起 到保护作用,提高压强减少金属元素蒸发;二是增加气体对流传热作用,更有利 于零件的均匀加热。真空时效可采用较高的真空度( 1.33 × 10 -2 ~ 1.33 × 10 -3 Pa )。由于时效时间较长,所以,真空炉的压升率最好小于或等于 0.67Pa/h , 否则, 不 易保证零件的表面光亮度。

3.回充气体的选择 真空保护气氛热处理方法回充气体的选择。 真空热处理采用分压加热时回充 气体应选择高纯度的中性或惰性气体,氢、氦、氮、氩等气体常见气体,其四种气体的冷却速度由快至慢依次为氢、氦、氮、氩。如以空气的冷速为 1 ,则氢、 氦、氮、氩与空气的冷速之比分别为 7 、 6 、 0.99 、 0.7 。 氢气在任何压强下都具有最大的热传导能力及最大的冷速, 可以用于石墨作 为加热和隔热元件的真空炉。但是,对含碳量高的钢种,在冷却的高温阶段(1050℃ 以上)有可能造成轻微脱碳;用于高强度钢则有氢脆的危险。用氢作冷却介质的 供气系统应密闭可靠,完成冷却操作后,应及时排出氢气,并充入氮气,方可打 开炉门,否则,有引起爆炸的危险。 氦气的价格最高。由于它在低压下也有一定的冷却能力,所以,一般在 1 × 104 Pa 以下的充气压强下使用。 氮气是最常用的气体, 也最便宜。 在略低于大气压压强下进行强制循环冷却, 冷却烈度值可上升约 20 倍。 在 200 ~ 1200 ℃范围内, 氮气对一般钢呈中性, 对钛 合金、 不锈钢、 高温合金等呈一定的活性, 若在氮气分压下进行真空加热和冷却, 零件表面有 Cr 2 N 形成,导致表面性能变坏,即抗拉强度增加,断面收缩率下降, 抗腐蚀性也会受到一定的影响。所以不宜用氮气。 氩气较为常见,价格比氦气便宜,但比氮气贵,在不宜使用氮气的场合,如不锈钢,高温合金与钛合金的真空加热和冷却,都需要使用氩气。

4.真空度的选择真空热处理后零件的表面光亮度与加热时的真空度、 加热温度等因素密切相关。 在一定的温度下,真空热处理后零件的表面光亮度,随真空度的提高而提高。

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